2026中国(上海)国际光刻胶材料展览会

2026中国(上海)国际光刻胶材料展览会

China (Shanghai) International Photoresist Materials Exhibition2026

〓基本信息〓

时间：2026年12月9-11日

地点：上海新国际博览中心

〓展会简介〓

    2026中国(上海)国际光刻胶材料展览会将集中展示光刻胶材料行业的最新产品与技术，为企业树立品牌形象，促进贸易合作、市场开发，引领行业趋势，加强生产、研发、销售互动，深入洞悉国内外光刻胶材料及应用市场未来发展新风向，以发展的眼光挖掘未来光刻胶材料市场的新需求，创新展会内涵，全方位、多层次组织专业观众，我们竭力将此次展览会办成光刻胶材料展览会界同仁交流的舞台，推动光刻胶材料展览会科技创新、提供发展商机，着力打造互惠共赢的平台！

   2026中国(上海)国际光刻胶材料展览会定于2026年12月9日-11日于上海新国际博览中心举办，邀请国内外专家与参会代表前来互动交流，探讨行业发展趋势，分享各自取得的经验成果，同时也向国际光刻胶材料行业展再迈进坚实的一步！届时，热忱欢迎国内外的光刻胶材料企业及其相关行业人士前来参观与交流！

〓日程安排〓

报到布展：

2026年12月7-8日 AM8:30-PM19:30

展出时间：

2026年12月09日 AM9:30-PM16:45

2026年12月10日 AM9:30-PM16:45

2026年12月11日 AM9:30-PM16:45

〓参展范围〓

1.PCB光刻胶、干膜光刻胶、湿膜光刻胶、LCD光刻胶、TFT正性胶、彩色光刻胶、黑色光刻胶、G线光刻胶、线光刻胶、KRF光刻胶、ARF光刻胶、CCD摄像头彩色滤光片光刻胶、MEMS光刻胶、触摸屏透明光刻胶、生物芯片光刻胶、LED光刻胶、半导体光刻胶等：

2.高粘度光刻胶、EUV光刻胶、干法光刻胶、化工艺光刻胶、半导体高端光刻胶、光刻胶配套试剂（PSPI）光刻胶、正性光刻胶、紫外线正胶、紫外线负胶、光刻胶光敏剂、光刻胶残胶收集装置、光刻胶专用化学品、光刻胶的显影和剥离、涂胶显影设备、彩色光刻胶、光敏聚酰亚胺、聚酰亚胺（PI）、光刻胶材料、光刻工艺材料、光刻胶单体材料、半导体化合物、光刻胶聚合物。

3.ASML光刻机、IC前道光刻机、紫外光刻机（EUV）光学、光刻设备、光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）光刻胶树脂、光刻胶去除剂、溶剂、螯合剂、 缓蚀剂、光致产酸剂、锆前驱体集、生产、检测等

〓联系我们〓

联系人：张先生13636604883（同微信）